EUV(극자외선 노광)
파장이 매우 짧은 극자외선 빛을 이용해, 기존 장비로는 불가능한 수준의 아주 미세한 반도체 회로를 웨이퍼 위에 새길 수 있게 해주는 첨단 노광 장비 기술입니다.
한눈에 보는 정의
**EUV(Extreme Ultraviolet Lithography, 극자외선 노광)**는 파장이 매우 짧은 극자외선(EUV) 빛을 이용해, 반도체 웨이퍼 위에 훨씬 더 미세하고 촘촘한 회로 패턴을 새길 수 있게 해주는 첨단 노광 장비 기술입니다.
자세히 알아보기
- 예문: "7nm 이하의 미세 공정을 양산하려면 EUV 장비가 필수적이다."
- 빛의 파장이 짧을수록 더 세밀한 패턴을 그릴 수 있어, nm(나노미터 공정) 공정을 더 작게 만드는 데 핵심적인 역할을 합니다.
- 전 세계에서 이 장비를 만들 수 있는 곳이 사실상 네덜란드의 ASML 한 곳뿐일 정도로, 기술 난이도와 장비 가격이 매우 높습니다.